與水(shui)基或容劑型噴(pen)(pen)墨(mo)多種，太(tai)陽(yang)光(guang)的(de)UV線(xian)凝固后墨(mo)汁要厚得多，粘(zhan)合度也高。噴(pen)(pen)槍被來(lai)加熱(re)以(yi)下(xia)降粘(zhan)合度，若(ruo)想應該有郊地(di)來(lai)引射；從而，必定選(xuan)擇工(gong)業生產(chan)化(hua)的(de)光(guang)電(dian)探測(ce)器(qi)(qi)噴(pen)(pen)槍。沒(mei)有選(xuan)擇熱(re)敏(min)噴(pen)(pen)墨(mo)或低粘(zhan)合度光(guang)電(dian)探測(ce)器(qi)(qi)噴(pen)(pen)墨(mo)噴(pen)(pen)槍。用到太(tai)陽(yang)光(guang)的(de)UV線(xian)凝固后uv墨(mo)水(shui)的(de)工(gong)業生產(chan)化(hua)的(de)印(yin)刷頭(tou)(tou)要高端得多，而選(xuan)用這樣的(de)印(yin)刷頭(tou)(tou)的(de)印(yin)刷機也是(shi)是(shi)這樣。

紅外(wai)光譜(pu)(pu)線(xian)uv墨水我覺得是(shi)同一(yi)個看(kan)不(bu)出(chu)的(de)(de)勝(sheng)機(ji)，即uv墨水就不(bu)會像水基(ji)或高沸(fei)點溶劑型uv墨水本來在噴(pen)(pen)水嘴中汽化，故此蓋帽和(he)沖洗都更更易服務管(guan)理，短(duan)路的(de)(de)疑問也(ye)少得多。從消極怠工的(de)(de)一(yi)堵看(kan)下，uv墨水尤其更易遭受雜(za)散的(de)(de)紅外(wai)光譜(pu)(pu)線(xian)的(de)(de)不(bu)良影響，這已經(jing)會形成太晚的(de)(de)化學交聯，而使短(duan)路噴(pen)(pen)水嘴。紅外(wai)光譜(pu)(pu)線(xian)應用復印機(ji)機(ji)的(de)(de)機(ji)結(jie)構特征(zheng)是(shi)為了能讓以防雜(za)散光，其它結(jie)構特征(zheng)是(shi)利用隨機(ji)函(han)數(shu)彈窗不(bu)定(ding)期(qi)的(de)(de)使用的(de)(de)噴(pen)(pen)水嘴中的(de)(de)墨滴(di)來持續(xu)噴(pen)(pen)水嘴的(de)(de)人身可玩(wan)性--那(nei)是(shi)是(shi)同一(yi)個牢靠的(de)(de)復印機(ji)機(ji)設計(ji)方(fang)案中的(de)(de)重(zhong)中之重(zhong)結(jie)構特征(zheng)。

另一類個(ge)太陽輻射(she)線(xian)吸塑油的(de)挑戰是供(gong)氧(yang)中(zhong)(zhong)的(de)供(gong)氧(yang)與模型和低聚物(wu)激烈(lie)競(jing)爭太陽輻射(she)線(xian)直(zhi)接照射(she)時型成(cheng)的(de)隨意基。過(guo)多(duo)的(de)光帶(dai)(dai)來(lai)劑大部分被參加到墨(mo)泥中(zhong)(zhong)以拆遷補償(chang)供(gong)氧(yang)的(de)生(sheng)物(wu)降解。若果供(gong)氧(yang)在(zai)化(hua)學熱(re)塑反應前(qian)耗用了(le)光帶(dai)(dai)來(lai)劑，這樣(yang)化(hua)學熱(re)塑馬上(shang)會(hui)不幾乎。要(yao)想制止這類問題，并同意更快的(de)印(yin)快慢和更完整篇的(de)凝(ning)固后，EFI在(zai)其(qi)三些word條形碼打(da)印(yin)機的(de)印(yin)部位采取了(le)離氮氣"毯子"，以展示 一款(kuan)無氧(yang)的(de)印(yin)氛圍(wei)。

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